发明

一种电阻可调节的碳化硅多孔陶瓷及其制备方法2025

2024-03-31 07:38:19 发布于四川 3
  • 申请专利号:CN202311805339.4
  • 公开(公告)日:2025-04-08
  • 公开(公告)号:CN117776728A
  • 申请人:中国科学院上海硅酸盐研究所
摘要:本发明涉及一种电阻可调节的碳化硅多孔陶瓷及其制备方法。所述电阻可调节的碳化硅多孔陶瓷包括:碳化硅主相、烧结助剂相和连通气孔相;优选地,所述烧结助剂相为碳化硼相。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117776728 A (43)申请公布日 2024.03.29 (21)申请号 202311805339.4 (22)申请日 2023.12.26 (71)申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 地址 200050 上海市长宁区定西路1295号 (72)发明人 刘桂玲 万鑫 刘学建 杨金晶  陈忠明 黄政仁 姚秀敏 刘岩  (74)专利代理机构 上海瀚桥专利代理事务所 (普通合伙) 31261 专利代理师 曹芳玲 郑优丽 (51)Int.Cl. C04B 35/565 (2006.01) C04B 35/64 (2006.01) C04B 35/622 (2006.01) C04B 38/06 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 一种电阻可调节的碳化硅多孔陶瓷及其制 备方法 (57)摘要 本发明涉及一种电阻可调节的碳化硅多孔 陶瓷及其制备方法。所述电阻可调节的碳化硅多 孔陶瓷包括:碳化硅主相、烧结助剂相和连通气 孔相;优选地,所述烧结助剂相为碳化硼相。 A 8 2 7 6 7 7 7 1 1 N C CN 117776728 A 权 利 要 求 书 1/2页 1.一种电阻可调节的碳化硅多孔陶瓷,其特征在于,包括:碳化硅主相、烧结助剂相和 连通气孔

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