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PCT发明

溅射靶

2023-05-19 11:17:54 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080090588.8
  • 公开（公告）日：2024-06-25
  • 公开（公告）号：CN114901857A
  • 申请人：三井金属矿业株式会社
摘要：为了在具备介由间隙相邻的靶构件的厚度相互不同的构成的溅射靶中，能够防止基材的构成材料混入到薄膜中。提出了一种溅射靶，其具备：多个靶构件、具有阶梯差的基材、和设置于靶构件与基材之间的保护构件，其中，配置于具有阶梯差的基材的阶梯差部分处的靶构件的厚度相互不同，厚度相互不同的靶构件之中的厚度较小的靶构件的端部具有比基材的阶梯差部突出的部分(将该突出的部分称为“突出部”)。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114901857 A (43)申请公布日 2022.08.12 (21)申请号 202080090588.8 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 (22)申请日 2020.09.01 专利代理师 陆昊　陈建全 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2020-018559 2020.02.06 JP C23C 14/34 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C04B 35/01 (2006.01) 2022.06.27 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/033044 2020.09.01 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/157112 JA 2021.08.12 (71)申请人 三井金属矿业株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 寺村享祐　 权利要求书1页 说明书10页 附图4页 (5

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