实用新型

一种高强度电解槽2024

2024-04-21 07:57:22 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202321920454.1
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN220812670U
  • 申请人:上海氢锐科技有限公司
摘要:本实用新型公开了一种高强度电解槽,包括开口式电镀槽和废气处理结构,所述废气处理结构设置在开口式电镀槽的顶部;所述废气处理结构包括隔空设置在开口式电镀槽顶部的处理池,所述处理池的内部填充有中和液,所述处理池内壁的底部固定连接有周转箱,所述周转箱的顶部连通有若干个均布的高压单向出气阀,所述处理池的底部连通有延伸至周转箱内部的负压风机,所述处理池的内壁固定连接有支撑环,所述支撑环的顶部贴合有吸附层。本实用新型通过中和液和吸附层可依次对废气进行两次处理,相较于现有不具有处理废气功能的开口式电镀槽,本装置具有处理废气的优点,方便人们的使用。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220812670 U (45)授权公告日 2024.04.19 (21)申请号 202321920454.1 (22)申请日 2023.07.20 (73)专利权人 上海氢锐科技有限公司 地址 201108 上海市闵行区都会路855号1 号楼六楼601室 (72)发明人 张秀存  (74)专利代理机构 上海誉知恒专利代理事务所 (普通合伙) 31452 专利代理师 李杨 (51)Int.Cl. C25D 17/02 (2006.01) C25D 21/04 (2006.01) C25D 21/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 (54)实用新型名称 一种高强度电解槽 (57)摘要 本实用新型公开了一种高强度电解槽,包括 开口式电镀槽和废气处理结构,所述废气处理结 构设置在开口式电镀槽的顶部;所述废气处理结 构包括隔空设置在开口式电镀槽顶部的处理池, 所述处理池的内部填充有中和液,所述处理池内 壁的底部固定连接有周转箱,所述周转箱的顶部 连通有若干个均布的高压单向出气阀,所述处理 池的底部连通有延伸至周转箱内部的负压风机, 所述处理池的内壁固定连接有支撑环,所述支撑 环的顶部贴合有吸附层。本实用新型通过中和液 和吸附层可依次对废气进行两次处理,相较于现 有不具有处理废气功能的开口式电镀槽,本装置 U 具有处理废气的优点,方便人们的使用。 0 7 6 2 1

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