一种复合真空镀膜设备及其使用方法
- 申请专利号:CN202210511855.5
- 公开(公告)日:2024-04-19
- 公开(公告)号:CN114875358A
- 申请人:北京大学深圳研究生院
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875358 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210511855.5 C23C 14/54 (2006.01) (22)申请日 2022.05.10 (71)申请人 北京大学深圳研究生院 地址 518055 广东省深圳市南山区西丽深 圳大学城北大园区 (72)发明人 吴忠振 马旻昱 崔岁寒 苏雄宇 (74)专利代理机构 深圳市君胜知识产权代理事 务所(普通合伙) 44268 专利代理师 谢松 (51)Int.Cl. C23C 14/02 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) 权利要求书3页 说明书13页 附图1页 (54)发明名称 一种复合真空镀膜设备及其使用方法 (57)摘要 本发明公开了一种真空复合镀膜设备及其 使用方法,设备包括:真空室、弧光放电模块、气 体离子源、高功率磁控放电模块、工件旋转系统、 加热系统。本发明弧光增强结构或者气体离子源 的清洁等离子体对工件进行高效清洗,弧光放电 产生的高密度电子对N 进行高效电离,用于低温 2 离子渗氮;利用高功率脉冲磁控溅射技术产生高 强度清洁金属等离子体对