1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 电学
PCT发明

等离子处理装置以及等离子处理方法

2022-10-24 10:22:15 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN202080004112.8
  • 公开（公告）日：2025-10-14
  • 公开（公告）号：CN115004864A
  • 申请人：株式会社日立高新技术
摘要：本发明的等离子处理装置之一的特征在于，具备：处理室，对试样进行等离子处理；第一高频电源，经由匹配器供给用于生成等离子的第一高频功率；试样台，载置所述试样；第二高频电源，向所述试样台供给第二高频功率；以及控制装置，控制所述匹配器，以使得在通过具有多个振幅值并周期性反复的波形调制所述第一高频功率的情况下，在与规定用于通过所述匹配器进行匹配的要件的模式对应的期间进行所述匹配，所述期间是与所述多个振幅值中的任1个对应的所述波形的各期间。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115004864 A (43)申请公布日 2022.09.02 (21)申请号 202080004112.8 (51)Int.Cl. H05H 1/46 (2006.01) (22)申请日 2020.01.30 H01L 21/3065 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.01.22 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/003413 2020.01.30 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/152770 JA 2021.08.05 (71)申请人 株式会社日立高新技术 地址 日本东京都 (72)发明人 市川贵大　弘中嘉之　大越康雄　 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 专利代理师 张远 权利要求书2页 说明书9页 附图4页 (54)发明名称 等离子处理装置以及等离子处理方法 (57)摘要 本发明的等离子处理装置之一的特征在于， 具备：处理室，对试样进行等离子处理；第一高频 电源，经由匹配器供给用于生成等离子的第一高 频功率；试样台，载置所述试样；第二高频电源， 向所述试样台供给第二高频功率；以及控制装 置，

最新专利

相关专利