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发明

高硬度材料涂层结构及其制备方法

2023-07-23 07:00:03 发布于四川 7
  • 申请专利号：CN202210605175.X
  • 公开（公告）日：2023-07-21
  • 公开（公告）号：CN114990541A
  • 申请人：北京航空航天大学
摘要：一种高硬度材料涂层结构及其制备方法，高硬度材料涂层结构包括：利用非晶合金作为基底或过渡层；在非晶合金基底或过渡层上采用冷喷涂工艺喷涂高硬度材料粉末，在所述非晶合金基底或过渡层上得到高硬度材料致密涂层。非晶合金允许更大的局域剪切变形，在冷喷涂过程将高硬度材料粉末以超过临界沉积速度的速度撞击于非晶合金基底或过渡层，撞击过程引起非晶表面大的剪切形变及剪切软化，而冷喷涂的低温不会引起非晶晶化，从而有效地增强非晶合金基底或过渡层和喷涂颗粒之间的结合强度，明显抑制颗粒的脱落，从而可以制备得到致密且高硬度的涂层。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114990541 A (43)申请公布日 2022.09.02 (21)申请号 202210605175.X B22F 1/065 (2022.01) B22F 1/142 (2022.01) (22)申请日 2020.06.30 B22F 1/145 (2022.01) (62)分案原申请数据 C22C 29/08 (2006.01) 202010616217.0 2020.06.30 (71)申请人 北京航空航天大学 地址 100191 北京市海淀区学院路37号 (72)发明人 单光存　张吉亮　石灿鸿　李鑫　 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 专利代理师 张琛 (51)Int.Cl. C23C 24/04 (2006.01) B22F 9/08 (2006.01) B22F 9/14 (2006.01) B22F 1/06 (2022.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图5页 (54)发明名称 高硬度材料涂层结构及其制备方法 (57)摘要

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