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PCT发明

金属填充微细结构体的制造方法

2022-10-24 10:23:23 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080094351.7
  • 公开（公告）日：2024-08-16
  • 公开（公告）号：CN115003864A
  • 申请人：富士胶片株式会社
摘要：本发明提供一种金属填充微细结构体的制造方法，该方法在将金属填充到多个细孔时，抑制对多个细孔的金属填充缺陷。金属填充微细结构体的制造方法具有：在金属部件的表面上设置具有多个细孔的绝缘膜，从而得到具有金属部件和绝缘膜的结构体的工序；及针对结构体，在超临界状态或亚临界状态下对至少具有绝缘膜的一侧的面进行金属镀敷的镀敷工序，在多个细孔中填充金属。在镀敷工序开始时，在结构体的细孔的底部存在除阀金属以外的金属层，在细孔的底部中对80％以上面积的区域形成有除阀金属以外的金属层。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115003864 A (43)申请公布日 2022.09.02 (21)申请号 202080094351.7 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2020.12.23 专利代理师 薛海蛟 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2020-014713 2020.01.31 JP C25D 11/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C23C 28/00 (2006.01) 2022.07.22 C25D 5/00 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C25D 11/04 (2006.01) PCT/JP2020/048124 2020.12.23 C25D 11/18 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/153112 JA 2021.08.05 (71)申请

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