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发明

一种原位自生Al2O3增强高熵合金涂层及制备方法

2023-06-04 11:15:22 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202310195372.3
  • 公开（公告）日：2024-10-22
  • 公开（公告）号：CN116200739A
  • 申请人：昆明理工大学
摘要：本发明公开了一种原位自生Al2O3增强高熵合金涂层及制备方法，属于激光熔覆领域。本发明所述的合金粉末为Al、Ti、V、Cr、Nb、TiO2，基体材料选用TC4钛合金；具体方法为：对TC4基材进行表面预处理，将称量好的Al、Ti、V、Cr、Nb金属粉末与纳米TiO2粉末通过球磨机球磨后均匀后预置在预处理TC4基材上，在其表面形成预置层，并进行激光熔覆试验，采用原位自生的方式引入Al2O3增强相，提高其高温抗氧化性能。本发明制备出的AlTiVCrNb‑TiO2高熵合金涂层与基体实现良好的冶金结合，并无孔洞和裂纹的产生，其涂层具高硬度及良好的抗氧化性能。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116200739 A (43)申请公布日 2023.06.02 (21)申请号 202310195372.3 (22)申请日 2023.03.03 (71)申请人 昆明理工大学 地址 650093 云南省昆明市五华区学府路 253号 (72)发明人 刘洪喜　陶建涛　李为尚　齐惠清　 刘亮　 (74)专利代理机构 昆明隆合知识产权代理事务 所(普通合伙) 53220 专利代理师 龙燕 (51)Int.Cl. C23C 24/10 (2006.01) C22C 30/00 (2006.01) C22C 32/00 (2006.01) B22F 9/04 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 一种原位自生Al O 增强高熵合金涂层及制 2 3 备方法 (57)摘要 本发明公开了一种原位自生Al O 增强高熵 2 3 合金涂层及制备方法，属于激光熔覆领域。本发 明所述的合金粉末为Al、Ti、V、Cr、Nb、TiO ，基体 2 材料选用TC4钛合金；具体方法为：对TC4基材进 行表面预处理，将称量好的Al、Ti、V、

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