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PCT发明

两级气密密封及其制作工艺

2023-05-28 11:39:30 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080104718.9
  • 公开（公告）日：2025-04-15
  • 公开（公告）号：CN116157370A
  • 申请人：V玻璃公司
摘要：一种真空玻璃组件具有间隔开的第一和第二非金属基材，该第一和第二非金属基材通过密封元件彼此连接，以在其间形成可抽真空的内部空间。该密封元件通过以下方式形成：使用冷焊接将金属桥接元件接合到该基材中的至少一种基材以形成第一级密封；形成至少部分地与第一级密封接触的第二级密封。该密封元件被配置为将该内部空间与周围环境气密性地隔离，并且第一级密封件和第二级密封件二者皆有助于该密封元件的气密性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116157370 A (43)申请公布日 2023.05.23 (21)申请号 202080104718.9 (74)专利代理机构 深圳市沈合专利代理事务所 (特殊普通合伙) 44373 (22)申请日 2020.09.08 专利代理师 沈祖锋　欧阳雪兵 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 63/038,102 2020.06.11 US C03C 27/10 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.01.18 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2020/049700 2020.09.08 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/252000 EN 2021.12.16 (71)申请人 V玻璃公司 地址 美国威斯康星州彼得森大道皮沃基 265西3011北 (72)发明人 彼得 ·佩蒂　 权利要求书2页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 两级气密密封及其制作工艺 (57)摘要

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