一种基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂及制备方法及应用

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116606312 A (43)申请公布日 2023.08.18 (21)申请号 202310610504.4 (22)申请日 2023.05.26 (71)申请人 西北工业大学 地址 710072 陕西省西安市碑林区友谊西 路127号 (72)发明人 柏桦　李盼盼　李林　彭勃　 张佳欣　杨佳琦　李锦涛　黄维　 (74)专利代理机构 西安通大专利代理有限责任 公司 61200 专利代理师 姚咏华 (51)Int.Cl. C07F 5/02 (2006.01) A61K 41/00 (2020.01) A61P 35/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图4页 (54)发明名称 一种基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光 敏剂及制备方法及应用 (57)摘要 本发明提供了一种基于氮杂氟硼二吡咯的 近红外二区光敏剂及制备方法及应用，属于光敏 剂技术领域。其利用Aza‑BODIPY染料的性质，将 母体中的硼原子用氧原子取代，进一步加大了染 料分子的共轭面积和内部电子的流动，增强分子 的系间穿越能力，使分子具有PDT效应。同时在2， 6位碳原子上引入给电子基团 (噻吩碳链)来增强 光敏剂分子的振动弛豫，增强光热转化的能力， 使其具有PTT效应。基于此，设计的类Aza‑BODIPY 分子同时具有光热和光动力性能，可用于肿瘤组 织的光治疗。 A 2 1 3 6 0