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发明

反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备

2023-07-01 07:11:44 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202110849038.6
  • 公开（公告）日：2024-09-24
  • 公开（公告）号：CN113703286A
  • 申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要：本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第一平面中间像(18)。在第二成像光平面(yz)中，成像光传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第二平面中间像(19,20)。第一平面中间像(18)的数量和第二平面中间像(19,20)的数量彼此不同。结果是制造成本减少的成像光学单元。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113703286 A (43)申请公布日 2021.11.26 (21)申请号 202110849038.6 G02B 17/06 (2006.01) (22)申请日 2016.04.12 (30)优先权数据 102015206635.5 2015.04.14 DE 102015226531.5 2015.12.22 DE (62)分案原申请数据 201680033406.7 2016.04.12 (71)申请人 卡尔蔡司SMT有限责任公司 地址 德国上科亨 (72)发明人 M.施瓦布　 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 王蕊瑞 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书94页 附图35页 (54)发明名称 反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备 (57)摘要 本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)， 其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3) 从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两 个物场坐标(x,y)，法线坐标(z)垂直于这两个物 场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xz )中 HR 传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第一平面 中间像(18)。在第二成像光平面(yz)中，成像光 传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第二平面

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