发明

一种薄膜制备装置和系统2024

2024-02-15 07:34:03 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202311668867.X
  • 公开(公告)日:2024-06-25
  • 公开(公告)号:CN117535644A
  • 申请人:合肥致真精密设备有限公司
摘要:本发明涉及了薄膜制备技术领域,具体的说是一种薄膜制备装置和系统,包括高真空传输腔,所述高真空传输腔通过超高真空插板阀连接超高真空物理气相沉积室A、超高真空物理气相沉积室B、超高真空电子束蒸发室和超高真空氧化室,超高真空物理气相沉积室A与超高真空电子束蒸发室位于同一侧,且所述超高真空物理气相沉积室A、超高真空物理气相沉积室B设置于高真空传输腔的两侧。本发明的薄膜处理系统实现了高效、稳定的薄膜制备。高真空传输室的机械手和传感器装置确保了晶圆的精确搬运和准确定位,而超高真空物理气相沉积室和超高真空氧化室的磁控溅射阴极和样品台则提供了溅射角度和溅射距离的可调节功能,满足了不同工艺需求。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117535644 A (43)申请公布日 2024.02.09 (21)申请号 202311668867.X C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01) (22)申请日 2023.12.07 (71)申请人 合肥致真精密设备有限公司 地址 231200 安徽省合肥市肥西县经济开 发区繁华大道与大观亭路交口西南角 立恒工业广场二期A12栋508室 (72)发明人 程厚义 李成 胡计豹 丁庆  (74)专利代理机构 安徽权小七知识产权代理事 务所(特殊普通合伙) 34172 专利代理师 闵兴伍 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23C 14/30 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 (54)发明名称 一种薄膜制备装置和系统 (57)摘要 本发明涉及了薄膜制备技术领域,具体的说 是一种薄膜制备装置和系统,包括高真空传输 腔,所述高真空传输腔通过超高真空插板阀连接 超高真空物理气相沉积室A、超高真空物理气相 沉积室B、超高真空电子束蒸发室和超高真空氧 化室,超高真空物理气相沉积

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