一种薄膜制备装置和系统2024
- 申请专利号:CN202311668867.X
- 公开(公告)日:2024-06-25
- 公开(公告)号:CN117535644A
- 申请人:合肥致真精密设备有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117535644 A (43)申请公布日 2024.02.09 (21)申请号 202311668867.X C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01) (22)申请日 2023.12.07 (71)申请人 合肥致真精密设备有限公司 地址 231200 安徽省合肥市肥西县经济开 发区繁华大道与大观亭路交口西南角 立恒工业广场二期A12栋508室 (72)发明人 程厚义 李成 胡计豹 丁庆 (74)专利代理机构 安徽权小七知识产权代理事 务所(特殊普通合伙) 34172 专利代理师 闵兴伍 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23C 14/30 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 (54)发明名称 一种薄膜制备装置和系统 (57)摘要 本发明涉及了薄膜制备技术领域,具体的说 是一种薄膜制备装置和系统,包括高真空传输 腔,所述高真空传输腔通过超高真空插板阀连接 超高真空物理气相沉积室A、超高真空物理气相 沉积室B、超高真空电子束蒸发室和超高真空氧 化室,超高真空物理气相沉积