后处理设备
- 申请专利号:CN202180006456.7
- 公开(公告)日:2024-11-12
- 公开(公告)号:CN114729069A
- 申请人:株式会社LG化学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114729069 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202180006456.7 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 (22)申请日 2021.04.16 专利代理师 褚瑶杨 肖轶 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 10-2020-0050155 2020.04.24 KR C08F 6/00 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.05.13 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/KR2021/004804 2021.04.16 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/215750 KO 2021.10.28 (71)申请人 株式会社LG化学 地址 韩国首尔 (72)发明人 李世雄 宋泳满 金亨俊 李贤珉 权利要求书2页 说明书9页 附图2页 (54)发明名称 后处理设备 (57)摘要 本发明涉及一种后处理设备。本发明的后处 理设备用于对胶乳进行后