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发明

一种高耐候遮光膜及其制备方法2025

2024-01-26 07:24:59 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202311510088.7
  • 公开（公告）日：2025-10-31
  • 公开（公告）号：CN117362955A
  • 申请人：江西省爱成海光学科技有限公司
摘要：本发明公开了一种高耐候遮光膜及其制备方法，涉及遮光膜技术领域，包括以下成分制成：聚对苯二甲酸乙二醇酯、改性插层膨润土、炭黑、片状二氧化硅、乙烯基三(β‑甲氧乙氧基)硅烷)、碳纤维、抗氧化剂、羟基硅油、纳米二氧化钛；本发明制备的高分子聚合物遮光膜不仅具有较低的透光率，同时，还具有优异的耐候性，能够大幅度的延缓了老化进程。通过各组分的协同作用，当光线进入到高耐候遮光膜内后，会被高耐候遮光膜内的改性插层膨润土、炭黑、纳米二氧化钛各粒子表面或发生散射或发生吸收作用，在散射作用的效应下，能够使得光线在介质中的传播路径变的更加复杂，进而会大幅度的降低了光线的透过性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117362955 A (43)申请公布日 2024.01.09 (21)申请号 202311510088.7 C08K 3/34 (2006.01) C08K 3/22 (2006.01) (22)申请日 2023.11.14 C08K 3/04 (2006.01) (71)申请人 江西省爱成海光学科技有限公司 C08K 13/06 (2006.01) 地址 341899 江西省赣州市全南县工业园 二区产学研用园(9栋2层) (72)发明人 葛会登　李仕军　 (74)专利代理机构 赣州智府晟泽知识产权代理 事务所(普通合伙) 36128 专利代理师 杨金根 (51)Int.Cl. C08L 67/02 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01) C08K 7/00 (2006.01) C08K 9/02 (2006.01) C08K 9/04 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图1页 (54)发明名称 一种高耐候遮光膜及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种高耐候遮光膜及其制备 方法，涉及遮光膜技术领域，包

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