发明

一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺2025

2024-03-25 07:20:50 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202311783087.X
  • 公开(公告)日:2025-08-26
  • 公开(公告)号:CN117721428A
  • 申请人:西南大学|||深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要:本发明涉及表面涂层技术领域,具体公开了一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺,采用反应磁控溅射技术,在基底表面沉积单层结构的透明硬质涂层,利用元素掺杂与薄膜干涉原理,能够实现良好的减弱蓝光透过率的效果,操作简单,制备得到的涂层具有高的硬度,提高了涂层的耐磨性,同时,通过调控磁控溅射的工艺参数,能够精确调整SiN和AlN之比,进而调整涂层对不同波长蓝光及其余可见光的透过率,可控性强,尤其降低了短波段有害蓝光的透过率,保护视力,而长波段的有益蓝光则能够更多的穿透涂层,并且对其余可见光具有良好的透过率,有利于显色的清晰度和真实性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117721428 A (43)申请公布日 2024.03.19 (21)申请号 202311783087.X G02B 1/10 (2015.01) G02B 1/113 (2015.01) (22)申请日 2023.12.22 (71)申请人 西南大学 地址 400715 重庆市北碚区天生路2号西南 大学 申请人 深圳森丰真空镀膜有限公司 (72)发明人 李凤吉 白瑞珊 哈斯巴根  陆科宇 张存修 赵明华 汪达文  (74)专利代理机构 北京清控智云知识产权代理 事务所 (特殊普通合伙) 11919 专利代理师 李少云 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工 艺 (57)摘要 本发明涉及表面涂层技术领域,具体公开了 一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺,采 用反应磁控溅射技术,在基底表面沉积单层结构 的透明硬质涂层,利用元素掺杂与薄膜干涉原 理,能够实现良好的减弱蓝光透过率的效果,操 作简单,制备得到的涂层具有高的硬度,提高了 涂

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