发明

一种光固化离型剂、耐酸碱性离型膜及其制备方法2024

2024-04-21 07:52:37 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202410309522.3
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN117903694A
  • 申请人:扬州万润光电科技股份有限公司
摘要:本发明公开一种光固化离型剂、耐酸碱性离型膜及其制备方法,属于离型剂技术领域。光固化离型剂以下质量份原料制成:80份硅氧烷,其中己烯基聚二甲基硅氧烷占比为75wt%以上,其余为含氢硅氧烷;(3–12)份乙烯基吡咯烷酮单体;(0.1–1.5)份催化剂;(0.3–6)份引发剂。所述光固化离型剂混合均匀后涂布在基材上,在可见光的照射下固化,得到离型膜。本发明所使用的催化剂为有机材料,避免了将金属引入离型膜,且固化过程中无溶剂挥发。本发明制得的离型膜的剥离力可以低于3g/25mm,且具有良好的耐酸碱性及均匀度。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117903694 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202410309522.3 (22)申请日 2024.03.19 (71)申请人 扬州万润光电科技股份有限公司 地址 211400 江苏省扬州市仪征市景秀路 66号 (72)发明人 黄慰民 吴箫  (74)专利代理机构 南京天翼专利代理有限责任 公司 32112 专利代理师 王秀娟 (51)Int.Cl. C09D 183/07 (2006.01) C09D 7/63 (2018.01) C09J 7/40 (2018.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 一种光固化离型剂、耐酸碱性离型膜及其制 备方法 (57)摘要 本发明公开一种光固化离型剂、耐酸碱性离 型膜及其制备方法,属于离型剂技术领域。光固 化离型剂以下质量份原料制成:80份硅氧烷,其 中己烯基聚二甲基硅氧烷占比为75wt%以上,其 余为含氢硅氧烷;(3–12)份乙烯基吡咯烷酮单 体;(0.1–1.5)份催化剂;(0.3–6)份引发剂。所述 光固化离型剂混合均匀后涂布在基材上,在可见 光的照射下固化,得到离型膜。本发明所使用的 催化剂为有机材料,避免了将金属引入离型膜, 且固化过程中无溶剂挥发。本发明制得的离型膜 的剥离力可以低于3g/25mm,且具有良好的耐酸 A 碱性及均匀度。 4 9 6 3 0 9 7 1

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