一种化学机械抛光方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114888722 A (43)申请公布日 2022.08.12 (21)申请号 202210533249.3 (22)申请日 2022.05.17 (71)申请人 华海清科股份有限公司 地址 300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴 道11号 (72)发明人 梁清波　陈映松　王同庆　路新春　 (51)Int.Cl. B24B 53/017 (2012.01) B24B 53/12 (2006.01) B24B 57/02 (2006.01) B24B 37/20 (2012.01) B24B 37/30 (2012.01) B24B 37/34 (2012.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图12页 (54)发明名称 一种化学机械抛光方法 (57)摘要 本发明公开了一种化学机械抛光方法，其包 括：化学机械抛光时，开启防护件的溢流结构，使 得所述防护件的表面形成液膜；所述防护件设置 于供液装置和/或修整装置的上方，以防止抛光 溅落物附着于供液装置和/或修整装置而结晶。 A 2 2 7 8 8 8 4 1 1 N C CN 114888722 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种化学机械抛光方法，其特征在于，包括：化学机械抛光时，开启防护件的溢流结 构，使得所述防护件的表面形成液膜；所述防护件设置于供液装置和/或修整