一种磁控溅射镀膜传动装置2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117568771 A (43)申请公布日 2024.02.20 (21)申请号 202311682307.X (22)申请日 2023.12.08 (71)申请人 成都国泰真空设备有限公司 地址 610000 四川省成都市温江区成都海 峡两岸科技产业开发园科林西路618 号 (72)发明人 王伟　卢成　魏佳　张勇军　 黄桂祥　 (74)专利代理机构 成都顶峰专利事务所(普通 合伙) 51224 专利代理师 陈绍富 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种磁控溅射镀膜传动装置 (57)摘要 本发明公开了一种磁控溅射镀膜传动装置， 包括驱动架导轨座和直线运动导轨座，驱动架导 轨座上滑动设有工件驱动架，工件驱动架配设有 用于驱使其沿着驱动架导轨座滑动的直线运动 驱动机构；直线运动导轨座上滑动设有工件托 盘，工件托盘与工件驱动架之间连接有联结臂， 工件托盘上转动设有工件旋转架，工件旋转架配 设有用于驱使工件旋转架在工件托盘上转动的 自转驱动机构。本发明具备直线运动和自转运动 这两种独立运动模式，直线运动和自转运动可以 独立控制，直线运动和自转运动也可以互补干 扰，其能够使产品的中心溅射膜厚和边缘溅射膜 A 厚一致，得到的膜层厚度更加均匀，有效了解决