发明

掩膜板及其制作方法

2023-05-16 10:44:52 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210276961.X
  • 公开(公告)日:2024-06-14
  • 公开(公告)号:CN114752889A
  • 申请人:京东方科技集团股份有限公司|||成都京东方光电科技有限公司
摘要:本公开提供了一种掩膜板及其制作方法,涉及显示技术领域。该掩膜板的制作方法包括:形成具有第一开口的掩膜基板;将掩膜基板铺设于一掩膜板框架一侧,并对掩膜基板进行张网;在掩膜基板背离掩膜板框架的表面设置遮盖第一开口的支撑层;形成覆盖掩膜基板的掩膜层,掩膜层填充第一开口,且掩膜层位于第一开口内的区域具有多个第二开口;剥离支撑层。本公开通过在掩膜基板上形成精细金属掩膜板开口,并在精细金属掩膜板开口中形成电铸精细掩膜板开口,提高了掩膜板的分辨率,同时解决了传统的电铸精细掩膜板的焊接难度大、低开口率、张网误差大以及热膨胀系数大引起的蒸镀混色不良问题。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114752889 A (43)申请公布日 2022.07.15 (21)申请号 202210276961.X (22)申请日 2022.03.21 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 申请人 成都京东方光电科技有限公司 (72)发明人 关新兴 毕娜 刘华猛 刘佳宁  白珊珊 李彦松 曾琪皓 刘浩  (74)专利代理机构 北京律智知识产权代理有限 公司 11438 专利代理师 王辉 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01) C25D 1/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图4页 (54)发明名称 掩膜板及其制作方法 (57)摘要 本公开提供了一种掩膜板及其制作方法,涉 及显示技术领域。该掩膜板的制作方法包括:形 成具有第一开口的掩膜基板;将掩膜基板铺设于 一掩膜板框架一侧,并对掩膜基板进行张网;在 掩膜基板背离掩膜板框架的表面设置遮盖第一 开口的支撑层;形成覆盖掩膜基板的掩膜层,掩 膜层填充第一开口,且掩膜层位于第一开口内的 区域具有多个第二开口;剥离支撑层。本公开通 过在掩膜基板上形成精细金属掩膜板开口,并在 精细金属掩膜板开口中形成电铸精细掩膜板开 口,提高了掩膜板的分辨率

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