一种超分子组装体及其制备方法和清洗用途2024
- 申请专利号:CN202110851016.3
- 公开(公告)日:2024-02-23
- 公开(公告)号:CN113604298A
- 申请人:江苏奥首材料科技有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113604298 A (43)申请公布日 2021.11.05 (21)申请号 202110851016.3 B08B 3/08 (2006.01) (22)申请日 2021.07.27 (71)申请人 江苏奥首材料科技有限公司 地址 215523 江苏省苏州市常熟碧溪新区 万和路39号 (72)发明人 侯军 申海艳 (74)专利代理机构 北京至臻永信知识产权代理 有限公司 11568 代理人 彭晓玲 张宝香 (51)Int.Cl. C11D 7/32 (2006.01) C11D 7/26 (2006.01) C11D 7/60 (2006.01) C11D 7/36 (2006.01) C11D 7/34 (2006.01) 权利要求书1页 说明书14页 附图4页 (54)发明名称 一种超分子组装体及其制备方法和清洗用 途 (57)摘要 本发明涉及一种超分子组装体、其制备方法 和用途、包含其的清洗液及其用途和使用其的蚀 刻后半导体晶片清洗方法,所述超分子组装体由 环糊精类化合物主体分子与还原性客体分子组 成,所述清洗液包括所述超分子组装体、3‑吡啶 基偕胺肟、酸、有机碱、N,N‑二乙基羟胺、多元醇、 有机溶剂和水,所述超分子组装体通过独特的环 糊精类化合物主体分子和还原性客体分子的选 择与相互协同,具有诸