发明

一种超分子组装体及其制备方法和清洗用途2024

2024-03-02 07:42:13 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202110851016.3
  • 公开(公告)日:2024-02-23
  • 公开(公告)号:CN113604298A
  • 申请人:江苏奥首材料科技有限公司
摘要:本发明涉及一种超分子组装体、其制备方法和用途、包含其的清洗液及其用途和使用其的蚀刻后半导体晶片清洗方法,所述超分子组装体由环糊精类化合物主体分子与还原性客体分子组成,所述清洗液包括所述超分子组装体、3‑吡啶基偕胺肟、酸、有机碱、N,N‑二乙基羟胺、多元醇、有机溶剂和水,所述超分子组装体通过独特的环糊精类化合物主体分子和还原性客体分子的选择与相互协同,具有诸多优异的技术效果,尤其是优异的残留物清除效果和非常低的金属腐蚀速率,可用于蚀刻后半导体晶片清洗领域,具有良好的应用前景和工业化生产潜力。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113604298 A (43)申请公布日 2021.11.05 (21)申请号 202110851016.3 B08B 3/08 (2006.01) (22)申请日 2021.07.27 (71)申请人 江苏奥首材料科技有限公司 地址 215523 江苏省苏州市常熟碧溪新区 万和路39号 (72)发明人 侯军 申海艳  (74)专利代理机构 北京至臻永信知识产权代理 有限公司 11568 代理人 彭晓玲 张宝香 (51)Int.Cl. C11D 7/32 (2006.01) C11D 7/26 (2006.01) C11D 7/60 (2006.01) C11D 7/36 (2006.01) C11D 7/34 (2006.01) 权利要求书1页 说明书14页 附图4页 (54)发明名称 一种超分子组装体及其制备方法和清洗用 途 (57)摘要 本发明涉及一种超分子组装体、其制备方法 和用途、包含其的清洗液及其用途和使用其的蚀 刻后半导体晶片清洗方法,所述超分子组装体由 环糊精类化合物主体分子与还原性客体分子组 成,所述清洗液包括所述超分子组装体、3‑吡啶 基偕胺肟、酸、有机碱、N,N‑二乙基羟胺、多元醇、 有机溶剂和水,所述超分子组装体通过独特的环 糊精类化合物主体分子和还原性客体分子的选 择与相互协同,具有诸

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