一种掩模板及蒸镀装置
- 申请专利号:CN202310180206.6
- 公开(公告)日:2024-10-18
- 公开(公告)号:CN116162893A
- 申请人:京东方科技集团股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116162893 A (43)申请公布日 2023.05.26 (21)申请号 202310180206.6 (22)申请日 2023.02.17 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 (72)发明人 薛金祥 王伟杰 孙中元 张峰杰 刘文祺 (74)专利代理机构 北京中博世达专利商标代理 有限公司 11274 专利代理师 申健 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书2页 说明书17页 附图24页 (54)发明名称 一种掩模板及蒸镀装置 (57)摘要 本公开的一些实施例公开了一种掩模板及 蒸镀装置,涉及显示技术领域,该掩模板自带隔 垫物,且蒸镀开口更小更密,以满足超高分辨率 硅基显示产品的蒸镀要求。一种掩模板,包括掩 模板本体、固定层和多个隔垫物,掩模板本体包 括多个第一蒸镀开口;固定层设置于掩模板本体 一侧;固定层包括多个第二蒸镀开口;多个第二 蒸镀开口与多个第一蒸镀开口正对;隔垫物的至 少一部分位于固定层的远离掩模板本体的一侧, 且与固定层连接。本公开的一些实施例提供的一 种掩模板及蒸镀装置用于蒸镀形成基板的显示 区的结构。 A 3 9 8 2 6 1 6 1 1 N C CN 116162893 A 权 利 要 求