一种激光熔覆高熵合金离子渗氮复合涂层及其制备方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118086891 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410094384.1 C22C 30/00 (2006.01) (22)申请日 2024.01.23 (71)申请人 河北光兴半导体技术有限公司 地址 050035 河北省石家庄市高新区中山 东路931号 申请人 北京盛达众安科技有限公司 (72)发明人 刘晓飞　胡恒广　闫冬成　张广涛　 刘泽文　杨懿　李彩霞　闫俊龙　 叶润　王存麒　马俊卿　 (74)专利代理机构 北京润平知识产权代理有限 公司 11283 专利代理师 陈静 (51)Int.Cl. C23C 24/10 (2006.01) C23C 8/36 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 一种激光熔覆高熵合金离子渗氮复合涂层 及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及高性能金属粉末材料技术领域， 公开了一种激光熔覆高熵合金离子渗氮复合涂 层及其制备方法。该制备方法包括以下步骤：(1) 将含有Al、Co、Cr、Fe、Ni、Ti的配合料接触混合， 得到合金粉体，然后将合金粉体涂覆在预处理后 的基体材料表面，得到沉积基底；(2)在保护气体 存在下，将沉积基底进行激光熔覆，形成熔覆层； (3)在氮气和氢气存在下，将熔覆层进行离子