一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288204 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310234476.0 (22)申请日 2023.03.13 (71)申请人 南京理工大学 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号 (72)发明人 王琦瑶　李建亮　李航　 (74)专利代理机构 南京理工大学专利中心 32203 专利代理师 邹伟红 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) B82Y 30/00 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种N元素调控Ta W Nx硬质薄膜的方法 0.5 0.5 (57)摘要 本发明公开了一种N元素调控Ta W N 硬 0 .5 0 .5 x 质薄膜的方法 ，其步骤为 ：以Ta靶和W靶作为靶 材，采用氩气为溅射气体，氮气为反应气体，通过 直流磁控溅射靶材，在基底上获得Ta W N 硬