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发明

化合物羟基氟化硼酸铵和羟基氟化硼酸铵双折射晶体及制备方法和用途

2023-05-18 12:22:06 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202310154647.9
  • 公开（公告）日：2024-11-12
  • 公开（公告）号：CN116121869A
  • 申请人：中国科学院新疆理化技术研究所
摘要：本发明提供一种化合物羟基氟化硼酸铵双折射晶体及制备方法和用途，所述化合物的化学式为(NH4)2B3O3F4(OH)，分子量为209.52，采用水热法或室温溶液法制成，属于单斜晶系，空间群为C2/c，晶胞参数为a=20.151(9)Å，b=7.770(3)Å，c=11.519(5)Å，α=90°，β=117.225(5)°，γ=90°，单胞体积为1603.7(12)Å3,采用水热法或室温溶液法生长晶体，通过该方法获得的(NH4)2B3O3F4(OH)双折射晶体，紫外截止边低于200 nm，双折射率为0.049@1064 nm，该晶体的化学稳定性良好，能够用于制作各种用途的偏光棱镜，相位延迟器件和电光调制器件，例如，格兰棱镜、偏振分束器、补偿器、光隔离器环形器和光学调制器等，在光学和通讯领域有重要作用。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116121869 A (43)申请公布日 2023.05.16 (21)申请号 202310154647.9 G02B 5/30 (2006.01) G02B 27/28 (2006.01) (22)申请日 2023.02.23 (71)申请人 中国科学院新疆理化技术研究所 地址 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐 市北京南路40号附1号 (72)发明人 潘世烈　杨志华　程孟　 (74)专利代理机构 乌鲁木齐中科新兴专利事务 所(普通合伙) 65106 专利代理师 张莉 (51)Int.Cl. C30B 29/10 (2006.01) C30B 7/10 (2006.01) C30B 7/14 (2006.01) C01B 35/06 (2006.01) C30B 28/04 (2006.01) 权利要求书2页 说明书12页 附图3页 (54)发明名称 化合物羟基氟化硼酸铵和羟基氟化硼酸铵 双折射晶体及制备方法和用途 (57)摘要 本发明提供一种化合物羟基氟化硼酸铵双 折射晶体及制备方法和用途，所述化合物的化学 式为(NH ) B O F (OH)，分子量为209.52，采用水 4 2

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