一种原位气相沉积制备隔热氮化硼泡沫的制备方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116425553 A (43)申请公布日 2023.07.14 (21)申请号 202310098187.2 (22)申请日 2023.02.10 (71)申请人 浙江理工大学 地址 310018 浙江省杭州市钱塘区下沙高 教园区2号大街928号 (72)发明人 吕维扬　甄建政　张杰　唐辰阳　 姚玉元　 (74)专利代理机构 浙江英普律师事务所 33238 专利代理师 陈小良 (51)Int.Cl. C04B 35/583 (2006.01) C04B 35/622 (2006.01) C04B 38/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 (54)发明名称 一种原位气相沉积制备隔热氮化硼泡沫的 制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种隔热氮化硼泡沫的制备方 法，属于无机高温隔热材料领域。本发明是以三 聚氰胺泡沫为模板，以富含氮源的三聚氰胺泡沫 模板本身为氮源 ，在CVD炉中进行烧制，得粗产 品；然后再将粗产品置于马弗炉中，在400‑800℃ 条件下空烧，以去除残留的碳，得到氮化硼泡沫。 本发明的优点是首先通过化学气相沉积法将硼 源沉积到模板上，然后在高温条件下，沉积的硼 源物质与模板本身的氮源发生反应，原位生成氮 化硼，并依托模板良好的结构，复刻得到结构性 能较好的隔热氮化硼泡沫材料。所述隔热氮化硼 A 泡沫，具有的优异的高温抗氧化能力和化学稳定 3 性。该方法为泡沫材料的制备提供了