发明

一种(Ti,Zr,Hf)B2中熵陶瓷基复相材料及其制备方法

2023-07-03 10:09:25 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310337520.0
  • 公开(公告)日:2025-04-08
  • 公开(公告)号:CN116354730A
  • 申请人:中国科学院上海硅酸盐研究所
摘要:本发明提供了一种(Ti,Zr,Hf)B2中熵陶瓷基复相材料及其制备方法,包括(Ti,Zr,Hf)B2、BN和B4C,采用氧化物原料、B4C粉体利用氮化硅球磨介质球磨混合加压烧结而成。本发明的技术方案工艺简单,合成复相粉体和制备的陶瓷氧含量低,且晶粒小、粒径分布均匀,所制备的中熵陶瓷基复相材料在高温具有优良的强度和韧性等力学性能。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116354730 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310337520.0 (22)申请日 2023.03.31 (71)申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 地址 200050 上海市长宁区定西路1295号 (72)发明人 王新刚 王小飞 高巍 王铭  蒋丹宇  (74)专利代理机构 上海隆天律师事务所 31282 专利代理师 朱俊跃 钟宗 (51)Int.Cl. C04B 35/58 (2006.01) C04B 35/622 (2006.01) C04B 35/645 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 (54)发明名称 一种(Ti,Zr ,Hf)B 中熵陶瓷基复相材料及 2 其制备方法 (57)摘要 本发明提供了一种(Ti ,Zr ,Hf)B 中熵陶瓷 2 基复相材料及其制备方法,包括 (Ti,Zr ,Hf)B 、 2 BN和B C,采用氧化物原料、B C粉体利用氮化硅 4 4 球磨介质球磨混合加压烧结而成。本发明的技术 方案工艺简单,合成复相粉体和制备的陶瓷氧含 量低,且晶粒小、粒径分布均匀,所制备的中熵陶 瓷基复相材料在高温具有优良的强度和韧

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