处理装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114855139 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210040163.7 (22)申请日 2022.01.14 (30)优先权数据 2021-016577 2021.02.04 JP (71)申请人 住友重机械工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 一色雅仁　 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 专利代理师 夏斌 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 处理装置 (57)摘要 本发明提供一种能够提高处理性能的处理 装置。等离子体生成部(18)通过基于等离子体放 电的辐射热(H)(参考图2)进行加热，以去除真空 腔室(10)内的水分。如此，通过使用等离子体生 成部(18)中的基于等离子体放电的辐射热(H)， 能够去除真空腔室(10)内的水分。因此，通过降 低真空腔室(10)内的真空的极限压力，能够达到 高真空度。由此，当在真空腔室(10)内进行成膜 处理的情况下，能够通过提高膜质来提高处理性 能。 A 9 3 1 5 5 8 4 1 1 N C CN 114855139 A 权　利　要　求　书