发明

基于聚苯乙烯类硫鎓盐的产酸剂及其光刻胶组合物

2023-05-28 13:02:02 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202111407327.7
  • 公开(公告)日:2025-04-11
  • 公开(公告)号:CN116162186A
  • 申请人:中国科学院理化技术研究所
摘要:本发明公开了一种包含下式(I)所示重复单元的苯乙烯硫鎓盐聚合物,其合成过程简单,原料便宜易得。该类聚合物在各种极性溶剂中都具有很好的溶解性,以及非常好的成膜性,其作为产酸剂用于光刻胶中,可以避免小分子产酸剂溶解性差,成膜性差的问题,同时该聚合物产酸剂与光刻胶主体材料具有更好地相容性。通过改变硫鎓盐结构,使其具有长的吸收波长,也能够用于紫外光刻和深紫外光刻。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116162186 A (43)申请公布日 2023.05.26 (21)申请号 202111407327.7 (22)申请日 2021.11.24 (71)申请人 中国科学院理化技术研究所 地址 100190 北京市海淀区中关村东路29 号 (72)发明人 李嫕 王志昊 陈金平 于天君  曾毅  (74)专利代理机构 北京知元同创知识产权代理 事务所(普通合伙) 11535 专利代理师 谢蓉 (51)Int.Cl. C08F 8/34 (2006.01) C08F 112/08 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) 权利要求书3页 说明书8页 附图2页 (54)发明名称 基于聚苯乙烯类硫鎓盐的产酸剂及其光刻 胶组合物 (57)摘要 本发明公开了一种包含下式(I)所示重复单 元的苯乙烯硫鎓盐聚合物,其合成过程简单,原 料便宜易得。该类聚合物在各种极性溶剂中都具 有很好的溶解性,以及非常好的成膜性,其作为 产酸剂用于光刻胶中,可以避免小分子产酸剂溶 解性差,成膜性差的问题,同时该聚合物产酸剂 与光刻胶主体材料具有更好地相容性。通过改变 硫鎓盐结构,使其具有长的吸收波长,也能够用 于紫外光刻和深紫外光刻。 A 6 8 1 2 6 1 6 1 1 N C CN 116162186 A 权 利 要 求 书

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