基于高速激光熔覆的电磁屏蔽涂层及其制备方法与应用

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116219432 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202310255244.3 (22)申请日 2023.03.09 (71)申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研 究所 地址 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大 道519号 (72)发明人 庞旭明　蒲吉斌　穆森　 (74)专利代理机构 南京利丰知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 32256 专利代理师 王茹　王锋 (51)Int.Cl. C23C 24/10 (2006.01) B22F 1/12 (2022.01) H05K 9/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 基于高速激光熔覆的电磁屏蔽涂层及其制 备方法与应用 (57)摘要 本发明公开了一种基于高速激光熔覆的电 磁屏蔽涂层及其制备方法与应用。所述制备方法 包括 ：将碳纳米管与金属材料进行原位混合，获 得高速激光熔覆材料；以及，采用高速激光熔覆 技术将所述高速激光熔覆材料熔覆于基体表面， 获得电磁屏蔽涂层；其中，所述高速激光熔覆技 术中采用的熔覆线速度为3‑8m/min，单道横移为 0.2～1mm。本发明首次将高速激光熔覆技术引入 电磁屏蔽涂层制备领域，原位合成碳纳米管/金 属的电磁屏蔽涂层，且该涂层膜基结合强度高， 电磁屏蔽性能优异。 A 2 3 4 9 1 2 6