一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117170196 A (43)申请公布日 2023.12.05 (21)申请号 202311060881.1 (22)申请日 2023.08.22 (71)申请人 安徽国芯光刻技术有限公司 地址 230000 安徽省合肥市包河经济开发 区中关村协同智汇园B4栋5层 (72)发明人 李文静　章广飞　王运钢　薛业保　 (74)专利代理机构 合肥律众知识产权代理有限 公司 34147 专利代理师 朱波 (51)Int.Cl. G03F 7/207 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统 (57)摘要 本发明公开了一种激光直写式光刻机曝光 聚焦系统，涉及光刻机曝光镜头技术领域，包括 光学系统以及可接收光学系统所射出的光束的 曝光基板，由所述光学系统射出至曝光基板的光 束所组成的曝光光路中设置有光路调节结构。所 述光路调节结构包括有组合设置的固定棱镜一、 固定棱镜二和调节棱镜。本发明可调整整个光路 调节结构的接收光源射入位置的横截面厚度，以 调节聚焦位置，得到最佳焦面，实施曝光操作。同 时，调节棱镜移动与固定棱镜一、固定棱镜二所 产生的上、下间隙，可达到对偏移的光束实施矫 正的目的，有效避免折射至电路板上的光束与原 A 有光束的位置存在的偏差现象，提高了聚焦位 6 置、曝光位置的精准度。 9 1 0 7