一种高光学透明度涂层及其制备方法和应用2025
- 申请专利号:CN202311173399.9
- 公开(公告)日:2025-04-15
- 公开(公告)号:CN117089283A
- 申请人:哈尔滨工程大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117089283 A (43)申请公布日 2023.11.21 (21)申请号 202311173399.9 (22)申请日 2023.09.12 (71)申请人 哈尔滨工程大学 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南 通大街145号 (72)发明人 王君 张建伟 陈蓉蓉 朱佳慧 刘琦 李茹民 白雪峰 (74)专利代理机构 厦门纳益维知专利代理事务 所(普通合伙) 35273 专利代理师 陈剑聪 (51)Int.Cl. C09D 183/08 (2006.01) C09D 5/14 (2006.01) C09D 5/16 (2006.01) C08G 77/28 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种高光学透明度涂层及其制备方法和应 用 (57)摘要 本发明公开了一种高光学透明度涂层及其 制备方法和应用,其中制备方法包括以下步骤: S1.将单萜醇、硫醇单体进行搅拌混合,之后加入 光引发剂,然后在紫外光照下反应,生成溶液A ; S2 .选择硅酸四甲酯或硅酸四乙酯,再选择R1基 三甲氧基硅烷或R2基三乙氧基硅烷,然后选择醇 类进行混合搅拌,得到溶液B;S3.将溶液A逐渐滴 加到溶液B中,并搅拌,反应得到溶液C;S4 .将酸 溶液滴加到溶液C中,室温反应,得到均一、透明 的溶液D ;S5 .将溶液D静置
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