嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制备方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116588919 A (43)申请公布日 2023.08.15 (21)申请号 202310558549.1 (22)申请日 2023.05.18 (71)申请人 上海交通大学 地址 200240 上海市闵行区东川路800号 (72)发明人 史志文　吕博赛　陈佳俊　娄硕　 沈沛约　 (74)专利代理机构 上海光华专利事务所(普通 合伙) 31219 专利代理师 贺妮妮 (51)Int.Cl. C01B 32/186 (2017.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图3页 (54)发明名称 嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制 备方法 (57)摘要 本发明提供一种嵌在二维材料层间的石墨 烯纳米带及其制备方法，该石墨烯纳米带结构包 括：具有原子级平整度的衬底，由至少两个原子 层依次平行堆叠形成，且相邻两原子层之间通过 范德华力结合；至少一个纵切面，自衬底表面沿 衬底厚度方向延伸一个或多个原子层厚度的衬 底形成 ；至少一个石墨烯纳米带，冲破纵切面处 裸露的任意相邻两原子层的范德华力嵌入该两 层原子层之间，被衬底材料封装。形成的石墨烯 纳米带嵌于具有原子级平整度的衬底中，与外界 环境隔绝，使得石墨烯纳米带具有接近本征纳米 A 带的物性，规整的边缘结构；另外该制备方法操 9 作简单，成本较低，且可以大规模生产，具有较佳 1 9 8 的产业化价值。 8 5 6