化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114924463 A (43)申请公布日 2022.08.19 (21)申请号 202210127488.9 (22)申请日 2022.02.11 (30)优先权数据 2021-020906 2021.02.12 JP (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 增永惠一　渡边聪　小竹正晃　 大桥正树　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 专利代理师 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/038 (2006.01) 权利要求书5页 说明书61页 附图3页 (54)发明名称 化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案 形成方法 (57)摘要 或硒原子。 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及 抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获 得改善图案形成时的分辨率且减少LER及LWR的 图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图 案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅 负型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷(sulfurane) 或硒烷(selenurane)化合物，以下式(A1)表示， 及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重 复单元的聚合物。 式中，M为硫原子 A 3 6