一种精准修饰的纳米孔道膜及其制备方法和应用

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114561451 A (43)申请公布日 2022.05.31 (21)申请号 202210167948.0 (22)申请日 2022.02.23 (71)申请人 中国地质大学（武汉） 地址 430000 湖北省武汉市洪山区鲁磨路 388号 (72)发明人 黄羽　涂一丹　张炜奇　夏帆　 (74)专利代理机构 武汉知产时代知识产权代理 有限公司 42238 专利代理师 王佩 (51)Int.Cl. C12Q 1/682 (2018.01) C12Q 1/6834 (2018.01) 权利要求书1页 说明书5页 序列表1页 附图3页 (54)发明名称 一种精准修饰的纳米孔道膜及其制备方法 和应用 (57)摘要 本发明公开了一种基于浸润性区域化精准 修饰的纳米孔道膜，所述纳米孔道膜内表面修饰 有疏水涂层，所述纳米孔道膜外表面修饰有亲水 涂层和复合DNA探针；本发明还提供一种基于浸 润性区域化精准修饰的纳米孔道膜的制备方法， 包括以下步骤：步骤S1、采用化学气相沉积法将 疏水涂层沉积于纳米孔道膜内表面和外表面；步 骤S2、将所述步骤S1的纳米孔道膜使用物理气相 沉积法将亲水涂层沉积在纳米孔道膜的外表面； 步骤S3、将所述步骤S3获得的纳米孔道膜接枝复 合DNA探针；本发明还提供一种基于浸润性区域 A