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发明

基于聚苯乙烯类硫鎓盐及其光刻胶组合物

2023-05-28 13:04:14 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202211436603.7
  • 公开（公告）日：2025-04-11
  • 公开（公告）号：CN116162187A
  • 申请人：中国科学院理化技术研究所
摘要：本发明公开了一种包含下式(I)所示的重复单元的苯乙烯硫鎓盐聚合物作为产酸剂或光刻胶主体材料的应用。该类光刻胶材料在各种极性溶剂中都具有很好的溶解性，适于制成薄膜，该硫鎓盐聚合物本身包含酸敏感基团，无需添加额外产酸剂，能够有效避免化学放大光刻胶中酸扩散的问题，可以直接作为光刻胶主体材料，作为单一组分的光刻胶体系，用于不同类型的光刻。亦或者可以作为产酸剂与酸敏感主体材料混合作为光刻胶材料。通过改变硫鎓盐结构，使其具有长的吸收波长，也能够用于紫外光刻和深紫外光刻。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116162187 A (43)申请公布日 2023.05.26 (21)申请号 202211436603.7 G03F 7/038 (2006.01) G03F 7/039 (2006.01) (22)申请日 2022.11.16 G03F 7/004 (2006.01) (66)本国优先权数据 202111407329.6 2021.11.24 CN (71)申请人 中国科学院理化技术研究所 地址 100190 北京市海淀区中关村东路29 号 (72)发明人 陈金平　王志昊　李嫕　于天君　 曾毅　 (74)专利代理机构 北京知元同创知识产权代理 事务所(普通合伙) 11535 专利代理师 谢蓉 (51)Int.Cl. C08F 8/34 (2006.01) C08F 112/08 (2006.01) 权利要求书3页 说明书8页 附图3页 (54)发明名称 基于聚苯乙烯类硫鎓盐及其光刻胶组合物 (57)摘要 本发明公开了一种包含下式(I)所示的重复 单元的苯乙烯硫鎓盐聚合物作为产酸剂或光刻 胶主体材料的应用。该类光刻胶材料在各种极性 溶剂中都具有很好的溶解性，适于制成薄膜，该 硫鎓盐聚合物本身

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