超导线圈及超导线圈的制造方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114945998 A (43)申请公布日 2022.08.26 (21)申请号 202080093374.6 (51)Int.Cl. H01F 6/06 (2006.01) (22)申请日 2020.01.21 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.07.15 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/001947 2020.01.21 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/149156 JA 2021.07.29 (71)申请人 三菱电机株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 野村航大　横山彰一　松田哲也　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 专利代理师 黄盼 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 超导线圈及超导线圈的制造方法 (57)摘要 在用于MRI装置的超导线圈中，为了得到高 强度、高均匀度且在时间上稳定的静电磁场，需 要在期望的位置配置超导线，得到期望的线圈形 状。超导线圈(1)具备：绕线架(2)；间隔件(3)，其 配置于绕线架(2)的外周并具备螺旋状的卷绕槽 (5)及设置于卷绕槽(5)之间的连接槽(6)；以及 线圈组，其在卷绕槽(5)卷绕超导线(4)而构成。 由此，能够得到将线圈形状设为期