RPD镀膜装置2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117286477 A (43)申请公布日 2023.12.26 (21)申请号 202311221546.5 (22)申请日 2023.09.20 (71)申请人 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有 限公司 地址 518000 广东省深圳市坪山区龙田街 道竹坑社区金牛东路62号一层至六层 (72)发明人 余仲　陈厚模　林静影　苏超颖　 蔡泽　 (74)专利代理机构 广州嘉权专利商标事务所有 限公司 44205 专利代理师 张英凤 (51)Int.Cl. C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 RPD镀膜装置 (57)摘要 本发明公开了一种RPD镀膜装置，包括镀膜 室、炉膛、等离子体发生器、传送机构与输气机 构，输气机构包括输气主体，输气主体位述炉膛 朝向传送机构的一侧，输气主体具有排气孔，排 气孔用于朝向炉膛排放反应气体，输气主体具有 沿炉膛与传送机构的排布方向贯穿的反应腔。本 发明将输气主体设置于靠近靶锭的高温升华区 域，排气孔朝向炉膛扩散反应气体，反应气体扩 散至炉膛中央附近，借由炉膛的高热促进反应气 体中氧气的解离，可以有效提升氧气的解离度以 及在待镀基板上分布的均匀度，降低因离子受到 磁场的作用而偏向造成待镀基板上薄膜的不同 A 区块含氧比例不均匀的影响，进而提