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射频等离子体处理系统的均匀性控制2025

2025-04-05 13:51:58 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202180008616.1
  • 公开(公告)日:2025-04-04
  • 公开(公告)号:CN114981916A
  • 申请人:科米特技术美国股份有限公司
摘要:一种射频等离子体处理系统,包括:反应室;部署在反应室中的基座;以及在基座与反应室之间的环中在基座周围以方位角部署的多个扇形板。

专利内容

一种射频等离子体处理系统,包括:反应室;部署在反应室中的基座;以及在基座与反应室之间的环中在基座周围以方位角部署的多个扇形板。H01J37/32(2006.01);H01L21/67(2006.01)

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