分子束外延系统中固定GaSb衬底的方法及样品架
- 申请专利号:CN202011589006.9
- 公开(公告)日:2025-01-24
- 公开(公告)号:CN112593285A
- 申请人:苏州焜原光电有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112593285 A (43)申请公布日 2021.04.02 (21)申请号 202011589006.9 (22)申请日 2020.12.29 (71)申请人 苏州焜原光电有限公司 地址 215211 江苏省苏州市吴江区黎里镇 汾湖大道558号 (72)发明人 陈意桥 王伟强 周浩 (74)专利代理机构 北京中济纬天专利代理有限 公司 11429 代理人 于宏伟 (51)Int.Cl. C30B 25/12 (2006.01) C30B 29/40 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 (54)发明名称 分子束外延系统中固定GaSb衬底的方法及 样品架 (57)摘要 本发明是针对现有技术中固定GaSb衬底的 方法存在的易使衬底软化、衬底的温度均匀性不 易保证的不足,提供分子束外延系统中GaSb衬底 的安装固定方法及所用的样品架,样品架包括筒 体、钽片和压紧固定装置,筒体和压紧固定装置 均为在超高真空下不挥发,不放出气体的材质, 在筒体内表面设置有支撑结构,钽片设置在支撑 结构上,压紧固定装置位于钽片上方将钽片固定 在筒体内,采用本发明方法固定GaSb衬底,先将 Ga液涂在中间材料上,再通过中间材料将Ga液均 匀涂在钽片上,巧妙地解决了Ga液浸润性较差、 A 不易均匀的涂抹在钽片与GaSb衬底之间的难题, 5 将GaSb衬底均匀、稳固的粘在了钽片上,最终解 8 2 3 决