一种离子型有机三阶非线性光学材料及其制备方法2024
- 申请专利号:CN202311683711.9
- 公开(公告)日:2024-04-16
- 公开(公告)号:CN117886776A
- 申请人:西南技术物理研究所
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117886776 A (43)申请公布日 2024.04.16 (21)申请号 202311683711.9 (22)申请日 2023.12.10 (71)申请人 西南技术物理研究所 地址 610041 四川省成都市武侯区人民南 路四段七号 (72)发明人 李尤 曾晶 熊状 李伟男 占力 马蒙蒙 林国川 张翔 (74)专利代理机构 中国兵器工业集团公司专利 中心 11011 专利代理师 刘二格 (51)Int.Cl. C07D 277/64 (2006.01) G02F 1/355 (2006.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种离子型有机三阶非线性光学材料及其 制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种离子型有机三阶非线性 光学材料,所述光学材料为:4‑(4‑二甲基氨基苯 乙烯基)甲基苯并噻唑对甲苯磺酸盐,其分子式 为C H O N S 。本发明还提供一种离子型有机三 25 26 3 2 2 阶非线性光学材料的制备方法,步骤1.制备晶体 粗产物;步骤2.晶体生长。本发明光学材料具有 优良的三阶非线性光学性质,其展现出优良的饱 和吸收特性,薄膜的调制深度为58%,有望运用 于调Q激光器、锁模激光器以及折射型或者吸收 型的光学双稳器件当中;并且该有机物合成方法 简便、生产成本低廉、反应过程中副产物较少、合 A 成纯度较高,具有较好的批量化生产