一种MOFs光刻胶产品及其制备方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117270320 A (43)申请公布日 2023.12.22 (21)申请号 202311327412.1 (22)申请日 2023.10.13 (71)申请人 上海艾深斯科技有限公司 地址 201602 上海市松江区佘山镇吉业路 399号1幢、2幢、4幢、5幢 (72)发明人 李红　何青青　 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/039 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图3页 (54)发明名称 一种MOFs光刻胶产品及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种光刻胶组合物，包括如下组 分:1）含有MOFs纳米颗粒和光敏材料的分散体 系；以及2）含有结构式I化合物的溶剂；该组合物 适合于EUV光刻，具有稳定，高分辨率和自修复特 性。 A 0 2 3 0 7 2 7 1 1 N C CN 117270320 A 权　利　要　求　书 1/1 页 1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括如下组分: 1）含有MOFs的纳米分散体系，以及2）含有如下结构式I化合物的溶剂； 1 （I），其中X 选自H、D、(C ‑C )烷基、  (C ‑C )杂烷基、(C ‑C )烯基、(C ‑C )