一种掩膜组件、蒸镀设备和蒸镀方法

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288148 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310335049.1 (22)申请日 2023.03.30 (71)申请人 季华实验室 地址 528200 广东省佛山市南海区桂城街 道环岛南路28号 (72)发明人 杨一新　 (74)专利代理机构 北京开阳星知识产权代理有 限公司 11710 专利代理师 姚金金 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) H10K 71/16 (2023.01) 权利要求书2页 说明书14页 附图13页 (54)发明名称 一种掩膜组件、蒸镀设备和蒸镀方法 (57)摘要 本公开涉及一种掩膜组件、蒸镀设备和蒸镀 方法，其中，掩膜组件，包括至少一个掩膜框和设 置在所述掩膜框的承载面上的掩膜片；所述掩膜 框包括掩膜边框和位于所述掩膜边框围绕区域 内的至少一个支撑梁；所述支撑梁的承载面与所 述掩膜框的承载面平齐。本公开可以减小掩膜片 受重力产生变形的问题，适用于各种尺寸的掩膜 片，提高目标基板的对位准确度，提升蒸镀效果。 A 8 4 1 8 8 2 6 1 1 N C CN 116288148 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种掩膜组件，其特征在于，包括至