一种提升熔石英元件激光损伤阈值的表面处理工艺

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116462419 A (43)申请公布日 2023.07.21 (21)申请号 202310510196.8 C03B 25/00 (2006.01) (22)申请日 2023.05.08 (71)申请人 西南科技大学 地址 621010 四川省绵阳市涪城区青龙大 道中段59号 申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究 中心 (72)发明人 何洪途　孙来喜　郑天然　余家欣　 刘新祺　邹蕊矫　王方　李青山　 (74)专利代理机构 绵阳远卓弘睿知识产权代理 事务所(普通合伙) 51371 专利代理师 张忠庆 (51)Int.Cl. C03C 15/00 (2006.01) C03C 23/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 一种提升熔石英元件激光损伤阈值的表面 处理工艺 (57)摘要 本发明提供了一种提升熔石英元件激光损 伤阈值的表面处理工艺，通过高温退火处理实现 亚表面缺陷层不同程度地缩小和愈合，然后利用 H O 浅度刻蚀在较少的材料去除量的情况下去 2 2 除亚表面缺陷层，以达到提升激光损伤阈值的目 的。本发明提供了一种更加经济、清洁、环保和安 全的熔石英元件表面处理技术，可有效提升熔石 英光学元件的激光损伤阈值，为高质量熔石英元 件的在激光