发明

一种LED芯片制备方法及LED芯片2024

2023-10-11 07:18:01 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310915946.X
  • 公开(公告)日:2024-06-07
  • 公开(公告)号:CN116845152A
  • 申请人:江西兆驰半导体有限公司
摘要:本发明提供一LED芯片制备方法及LED芯片,制备方法包括,提供一包含ITO膜层的半成品芯片,在退火炉内满足预设条件温度时将ITO膜层放入并进行渐进式升温直至达到终点温度完成退火处理,并在退火炉内渐进升温的同时对退火炉内通入氧气,使退火炉内初始气体流量进行逐步降低,对ITO膜层进行富氧处理,采用富氧化与低温连续慢升温处理手段,对ITO膜层进行富氧化处理及渐进升温方式,能够有效减少ITO膜的氧空位和晶格缺陷问题,实现了优良的透光效果,以及在表面形成良好的欧姆接触。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116845152 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202310915946.X (22)申请日 2023.07.25 (71)申请人 江西兆驰半导体有限公司 地址 330000 江西省南昌市南昌高新技术 产业开发区天祥北大道1717号 (72)发明人 周志兵 张星星 林潇雄 胡加辉  金从龙  (74)专利代理机构 南昌旭瑞知识产权代理事务 所(普通合伙) 36150 专利代理师 梁耀锋 (51)Int.Cl. H01L 33/00 (2010.01) H01L 33/14 (2010.01) H01L 33/42 (2010.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (54)发明名称 一种LED芯片制备方法及LED芯片 (57)摘要 本发明提供一LED芯片制备方法及LED芯片, 制备方法包括,提供一包含ITO膜层的半成品芯 片,在退火炉内满足预设条件温度时将ITO膜层 放入并进行渐进式升温直至达到终点温度完成 退火处理,并在退火炉内渐进升温的同时对退火 炉内通入氧气,使退火炉内初始气体流量进行逐 步降低,对ITO膜层进行富氧处理,采用富氧化与 低温连续慢升温处理手段,对ITO膜层进行富氧 化处理及渐进升温方式,能够有效减少ITO膜的 氧空位和晶格缺陷问题,实现了优良的透光效 果,以及在表面形成良好的欧姆接触。 A 2 5 1 5

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