一种掩膜版

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114525470 A (43)申请公布日 2022.05.24 (21)申请号 202210071205.3 (22)申请日 2022.01.21 (71)申请人 成都拓维高科光电科技有限公司 地址 610000 四川省成都市高新区康强一 路1188号 (72)发明人 周俊吉　李哲　郑庆靓　刘鑫　 (74)专利代理机构 成都蓉创智汇知识产权代理 有限公司 51276 专利代理师 朱彬 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种掩膜版 (57)摘要 本发明公开了一种掩膜版，涉及显示设备技 术领域；技术方案：一种掩膜版，包括掩膜版本 体，所述掩膜版本体的端面设有若干凹槽。本发 明提供的掩膜版，在掩膜版本体的端面设有若干 凹槽，可减小掩膜版本体的重量，因此，能够减小 磁性隔板吸附掩膜版后掩膜版与玻璃基板之间 的压力，进而减小掩膜版与玻璃基板间的摩擦 力，从而减小摩擦产生的静电量，以降低玻璃基 板上的电路层或者蒸镀的有机材料被击穿的概 率，提高玻璃基板蒸镀良品率。 A 0 7 4 5 2 5 4 1 1 N C CN 114525470 A 权　利　要　求　书