发明

一种高介电、低损耗和高击穿强度的聚偏氟乙烯基复合材料及其制备方法和应用

2023-07-05 07:07:53 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202111055221.5
  • 公开(公告)日:2024-10-22
  • 公开(公告)号:CN113773536A
  • 申请人:哈尔滨理工大学
摘要:本发明公开了一种高介电、低损耗和高击穿强度的聚偏氟乙烯基复合材料及其制备方法和应用,属于高性能电容器和储能器件等应用领域。本发明要解决PVDF介电常数有限难以满足电容器和储能器件对高介电性能要求的技术问题。本发明是先用硅烷偶联剂改性的纳米钛酸铋钠,纳米钛酸铋钠的形貌为球状,以聚偏氟乙烯作为基体;方法:将硅烷偶联剂改性的纳米钛酸铋钠加入N,N‑二甲基甲酰胺中,超声搅拌2h,加入聚偏氟乙烯粉末,超声搅拌反应2h;铺膜,烘干;热压。本发明用于制作电容器和储能器件。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113773536 A (43)申请公布日 2021.12.10 (21)申请号 202111055221.5 H01G 4/18 (2006.01) (22)申请日 2021.09.09 (71)申请人 哈尔滨理工大学 地址 150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学 府路52号 (72)发明人 翁凌 许子祺 关丽珠 王小明  (74)专利代理机构 哈尔滨市阳光惠远知识产权 代理有限公司 23211 代理人 刘景祥 (51)Int.Cl. C08J 5/18 (2006.01) C08L 27/16 (2006.01) C08K 9/06 (2006.01) C08K 3/24 (2006.01) C08K 7/18 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图6页 (54)发明名称 一种高介电、低损耗和高击穿强度的聚偏氟 乙烯基复合材料及其制备方法和应用 (57)摘要 本发明公开了一种高介电、低损耗和高击穿 强度的聚偏氟乙烯基复合材料及其制备方法和 应用,属于高性能电容器和储能器件等应用领 域。本发明要解决PVDF介电常数有限难以满足电 容器和储能器件对高介电性能要求的技术问题。 本发明是先用硅烷偶联剂改性的纳米钛酸铋钠, 纳米钛酸铋钠的形貌为球状,以聚偏氟乙烯作为 基体;方法:将硅烷偶联剂改性的纳米钛酸铋钠

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