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发明

防氧化剂、背光模组及其制作方法2025

2024-02-04 07:13:05 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202310804709.6
  • 公开（公告）日：2025-04-25
  • 公开（公告）号：CN117467318A
  • 申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
摘要：本发明公开了一种防氧化剂、背光模组及其制作方法。防氧化剂包括成膜组分以及挥发抑制添加剂，其中，成膜组分包括取代或未取代的丙烯酸树脂、异丙醇胺、以及咪唑啉中的至少一者，挥发抑制添加剂的沸点大于所述成膜组分的沸点。本发明可以减缓挥发型防氧化剂的挥发速率；进而在应用过程中，可以将该防氧化剂涂覆于背光模组的端子上，并可以在制程中逐渐挥发，即减少端子的氧化，又可以避免该防氧化剂影响端子的绑定连接。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117467318 A (43)申请公布日 2024.01.30 (21)申请号 202310804709.6 C09D 7/20 (2018.01) C09D 7/63 (2018.01) (22)申请日 2023.06.30 C09D 5/00 (2006.01) (71)申请人 武汉华星光电半导体显示技术有限 公司 地址 430079 湖北省武汉市东湖新技术开 发区高新大道666号光谷生物创新园 C5栋305室 (72)发明人 邓红照　 (74)专利代理机构 深圳紫藤知识产权代理有限 公司 44570 专利代理师 赵佳 (51)Int.Cl. C09D 133/00 (2006.01) G09F 9/33 (2006.01) C09D 7/65 (2018.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 防氧化剂、背光模组及其制作方法 (57)摘要 本发明公开了一种防氧化剂、背光模组及其 制作方法。防氧化剂包括成膜组分以及挥发抑制 添加剂，其中，成膜组分包括取代或未取代的丙 烯酸树脂、异丙醇胺、以及咪唑啉中的至少一者

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