一种具有碳化硅涂层的石墨坩埚

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114909907 A (43)申请公布日 2022.08.16 (21)申请号 202210638542.6 (22)申请日 2022.06.07 (71)申请人 武汉拓材科技有限公司 地址 436000 湖北省鄂州市葛店开发区光 谷联合科技城C3-3栋 申请人 武汉理工大学 (72)发明人 卢鹏荐　曾小龙　张林　章嵩　 涂溶　张联盟　李鹏武　袁珊珊　 (74)专利代理机构 武汉天领众智专利代理事务 所(普通合伙) 42300 专利代理师 郭成星 (51)Int.Cl. F27B 14/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 一种具有碳化硅涂层的石墨坩埚 (57)摘要 本发明公开了一种具有碳化硅涂层的石墨 坩埚，具体涉及坩埚技术领域，包括旋转定位板 和防护外框，所述旋转定位板的内壁与坩埚主体 的外表面搭接，所述坩埚主体的内壁设置有防护 涂层，所述坩埚主体的外表面与五个限位组件的 外表面搭接，所述限位组件设置在放置槽内壁， 所述放置槽开设在旋转定位板的内壁。本发明通 过旋转定位板、齿牙、齿轮、驱动组件、坩埚主体 和防护外框，驱动组件工作的同时控制齿轮转 动，此时齿轮通过齿牙控制旋转定位板和坩埚主 体转动，坩埚主体在旋转定位板的偏心位置，实 现控制坩埚主体转动过程与加热源充分均匀接 A 触，保证坩埚主体的受热均匀，明显改善坩埚主 7 体的使用性能和使