一种真空镀膜装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116200716 A (43)申请公布日 2023.06.02 (21)申请号 202310181132.8 (22)申请日 2023.02.24 (71)申请人 安徽泰臻真空科技有限公司 地址 230000 安徽省合肥市庐阳区耀远路 兴庐科技产业园8号楼2层 (72)发明人 金龙钊　金梦娣　 (51)Int.Cl. C23C 14/50 (2006.01) C23C 14/22 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图9页 (54)发明名称 一种真空镀膜装置 (57)摘要 本发明公开了一种真空镀膜装置，涉及镀膜 装置技术领域。该一种真空镀膜装置，包括外壳 机构，外壳机构包括层壳一，层壳一的上端口内 侧壁固定连接有壳板一，层壳一的上端面固定连 接有层壳二，层壳二的内部设置有压移机构，压 移机构包括底板，底板贯穿嵌入且固定连接壳板 一的表面中部，底板的下表面四侧等距均匀的贯 穿且固定连接有底管，底管呈现管状且其上端面 齐平底板的上表面，底管的内部均插入有立柱， 四个立柱的上端共同固定连接有压移板，立柱的 上端外侧绕接有弹簧一，弹簧一的上端对应固定 连接压移板且其下端对应固定连接底板，该一种 A 真空镀膜装置，使得圆滑的基片能够均匀且快速 6 的进行镀膜，提高装置的镀膜能力。 1 7 0 0 2 6 1 1 N C CN 116200716 A 权　利