一种掩膜版图形的修正方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113093472 A (43)申请公布日 2021.07.09 (21)申请号 202010018891.9 (22)申请日 2020.01.08 (71)申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限 公司 (72)发明人 柏锋　张婉娟　王英芳　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 徐文欣 (51)Int.Cl. G03F 1/72(2012.01) 权利要求书3页 说明书10页 附图4页 (54)发明名称 一种掩膜版图形的修正方法 (57)摘要 一种掩膜版图形的修正方法，其中，包括：提 供目标版图，所述目标版图包括若干主图形；沿 第一方向将所述目标版图分为若干第一区；获取 每个所述第一区的位置信息；根据每个所述第一 区的位置信息获取该第一区的第一模型；根据所 述第一模型获取所述第一区内的每个所述主图 形周围的辅助图形的图形参数；根据每个所述主 图形的辅助图形的图形参数，在每个主图形周围 设置所述主图形的辅助图形。所述掩膜版图形的 修正方法能够使辅助图形不易被曝光。 A 2 7 4 3 9 0 3 1 1 N C CN 11309